报告题目：拓扑绝缘体材料及其在光电子领域的应用

---Topological insulator materials for advanced optoelectronic devices

报告人：岳增记(Zengji Yue), PhD, Associate Research Fellow

报告人简介：

岳增记，副研究员，2014年博士毕业于澳大利亚伍伦贡大学超导与电子材料研究所，师从王晓临教授与澳大利亚工程院院士窦士学教授。2014年底加入澳大利亚科学与工程院两院院士，中国工程院外籍院士顾敏教授课题组，在斯威本科技大学与皇家墨尔本理工大学，开展了基于拓扑材料的先进光电子器件研究。在此期间，岳博士在拓扑材料中发现了许多新奇和优越的光学特性，包括可见波段表面等离子体效应、近红外波段超高折射率、光学共振腔等等。他利用这些独特电、光学特性设计制备了一系列先进的光电子器件，包括超薄的光电压器件，超薄透镜，纳米级厚度的全息片，可与CMOS集成的光子角动量度量器件等。

近几年，岳博士在国际著名期刊发表了多篇优秀论文，包括以第一作者发表了2篇Nature Communications和1篇Science Advances等。岳博士还多次在国际光学与材料会议上做口头报告或邀请报告，并被Wiley出版社邀请参与撰写了名为《Advanced topological insulator》的专著。他的研究成果获得了国际同行的高度评价与大众媒体的广泛关注，对拓扑材料在纳米光学领域的应用做出了突出的贡献。

报告时间：12月13日（周四），下午4:00-5:00

报告地点：南堂115